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化學真空系統 PC 611 select常用于含高(gāo)沸點溶劑的真空應用。該泵能(néng)夠同時搭配兩個(gè)獨立的真空應用使用。一(yī)個(gè)應用由配備直通(tōng)電(diàn)磁閥的VACUU·SELECT真空控制器(qì)進行控制，另一(yī)個(gè)應用由手動流量調節閥進行抽速控制。兩個(gè)真空端口都内置單向止回閥，能(néng)夠防止交叉污染互相(xiàng)影響。
化學真空系統 PC 610 select描述 對于需要進行電(diàn)子控制蒸發或幹燥（包含許多(duō)高(gāo)沸點溶劑）過程的應用，我們的PC 600系列化學真空系統是一(yī)個(gè)很好的選擇。備受歡迎的MD 4C NT三級化學隔膜泵，其極限真空度為(wèi)2mbar，是這些真空系統的核心組件(jiàn)。典型的應用包括實驗室常見(jiàn)應用，如旋轉蒸發、真空幹燥和真空蒸餾。
普蘭德化學真空系統 PC 201 NT廣泛應用于化學、生(shēng)物(wù)和制藥實驗室的排氣、蒸發或者氣體抽取等過程。主要用于和旋轉蒸發儀、真空濃縮儀或真空幹燥箱等連用，非常适用于高(gāo)沸點溶劑。手動流量控制閥可以調節真空接口的有效抽速，指針式的真空壓力計可顯示真空值。
化學真空系統 MD 12C NT +EK有非常廣泛地用途，如排氣、蒸發及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速，又(yòu)非常适應高(gāo)真空需求，如用于高(gāo)沸點溶劑。MD 12C NT基礎泵配有一(yī)個(gè)氣鎮閥，在開(kāi)啓時仍有很好的極限真空，緊湊的設計下(xià)仍有好的性能(néng)。一(yī)貫的佳的耐化學腐蝕性，使其在化學及制藥領域幾乎通(tōng)用。
化學真空系統 MD 12C NT +AK+EK非常廣泛地用途，如排氣、蒸發及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速，又(yòu)非常适應高(gāo)真空需求，如用于高(gāo)沸點溶劑。MD 12C NT 基礎泵配有一(yī)個(gè)氣鎮閥，在開(kāi)啓時仍有很好的極限真空，緊湊的設計下(xià)仍有性能(néng)。
化學真空系統 MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一(yī)個(gè)真空泵即可同時實現兩種過程控制。可與旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個(gè)真空連接口配備一(yī)個(gè)手動控制閥來調節進氣口的有效流量。
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